pvd真空镀膜底涂处于基材和真空镀层之间，其作用主要有：
（1）通过底涂封闭基材，防止真空镀膜时基材中的挥发性杂质逸出，影响镀膜;
（2）塑料表面较粗糙，底涂预处理后，pvd真空镀膜，可通过涂层获得光滑平整的镜面效果;
（3）在薄膜材料上预涂底漆可进一步加强薄膜的阻隔性;
（4）预涂底漆有利于获得更厚的真空镀层，展现出更高的反射效果和力学性能;
（5）某些表面极性较低的基材如pp等与镀层的附着力较差，通过底漆可获得较好的镀层附着性;
（6）对某些耐热性较差的塑料基材，底涂可以起到一定的热缓冲作用，保护基材免遭热致形变。
pvd镀膜的具体原理是什么？
答:物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。
pvd镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？
答: pvd镀膜与传统的化学电镀的相同点是，pvd真空镀膜报价，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
pvd镀膜能否代替化学电镀？
在现阶段，pvd镀膜是不能取代化学电镀的，并且除了在不锈钢材料表面可直接进行pvd镀膜外，在很多其他材料（如锌合金、铜、铁等）的工件上进行pvd镀膜前，pvd真空镀膜公司，都需要先对它们进行化学电镀cr(铬)。pvd真空镀膜
pvd镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物膜（tin[钛金]、zrn〔锆金〕、crn、tialn）和碳化物膜（tic、ticn），以及氧化物膜（如tio等）。
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