pvd真空镀膜厂-泰坦金属-pvd真空镀膜

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    2020-11-7

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真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。



五金与塑料电镀材料上的区别

五金电镀的基材是金属,而塑料电镀的基材是塑料。由于基材不一样,其前期所处理的工艺完全不一样,但是后续电镀基本都一样。这是从两者材料上所发现的区别。



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 表面工程是多学科交叉、综合,多技术融合、集成的新兴学科,表面工程的优势是能够以低成本、低能耗制备出优于本体材料性能、多于本体材料功能,pvd真空镀膜报价,适宜于服役环境要求的新表面。








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 真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年,pvd真空镀膜厂, 开始研究接触角与表面能的关系(young)。1817年, 透镜上形成减反射膜(fraunhofer)。1839年, 开始研究电弧蒸发(hare)。开始研究真空溅射镀膜(grove;pulker)。1857年, 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(faraday;conn)。 1874年, ---制成等离子体聚合物(dewilde;thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(wright)。1880年, 碳氢化合物气相热解(sawyer;mann)。1887年, 薄膜的真空蒸发(坩埚) (nahrwold;pohl;pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功---钨的氢还原法(cvd); 膜厚的光学干涉测量法(wiener)。




cvd真空镀膜厂家的tac膜层特点及应用:本公司为客户提供质---优的镀膜服务,镀制的主要膜层有tac(金刚石膜),这种膜层有以下性能:

tac膜层的特点:

1.    tac(类金刚石)膜层有---的硬度(hv6000),优良的耐磨性能,摩擦系数极低(低至0.08),pvd真空镀膜,膜层厚度1-2um

2.    具有优异的耐蚀性,---各种酸、碱等腐蚀。

3.    对金属、塑料、橡胶、陶瓷等均有---的抗粘结和防咬合性能

4.    表面粗糙度低(可达镜面级)

5.    与基体结合力很强,可以在各种钢铁、钛合金、铝合金、硬质合金等材料上沉积






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