真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术,是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜......
1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。
2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
真空镀膜
真空镀膜应用,简单地理解就是在真空环境下,利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法,在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。相对于传统镀膜方式,真空镀膜应用属于一种干式镀膜,它的主要方法包括以下几种:
真空蒸镀
其原理是在真空条件下,用蒸发器加热带蒸发物质,pvd真空镀膜加工厂,使其气化或升华,蒸发离子流直接射向基片,并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
真空镀膜厂家 真空镀膜加工镀铝怎样镀厚
由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄,因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度,常用的检测方法如下:
电阻法。电阻法是利用欧姆定律来对镀铝层的厚度进行测量,根据欧姆定律: r=pxl/s 单位面积镀铝薄膜的电阻值越小,其镀铝层的厚度越厚,反之则越薄。
电阻法检测镀铝层的厚度用表面电阻来表示,pvd真空镀膜,单位是q,数值越大说明镀铝层厚度越薄,一般真空镀铝薄膜的表面电阻值为1.0~2.5q。
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