真空镀膜
光密度法。光密度(od)定义为材料遮光能力的表征。光密度没有量纲单位,pvd真空镀膜,是一个对数值,通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。
计算公式为: od=lg(入射光/透射光)或od=lg(1/透光率) 通常镀铝膜的光密度值为l~3(即光线透过率为0.10/0~10%),数值越大镀铝层越厚。 光密度od值、方阻值对应的铝层厚度如表6-7所示。 表6-70d值、方阻值和铝层厚度对照表 光密度 od值 电阻值 ohm/square方阻值 铝层厚度 a 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,pvd真空镀膜公司,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。
真空镀膜加工是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术先用于生产光学镜片,pvd真空镀膜厂,如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜,唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色,机械刀具镀膜,改变加工红硬性。
真空镀膜加工与电镀全是两回事儿。真空镀膜加工是把物体放入真空室里,在真空状态下把所要镀的金属加热蒸发,然后被镀物体在里面转动把金属颗粒吸附在被镀物体表面,镀后为了不使金属颗粒氧化在表面再喷透明面油从而增加结合力和隔离空气。一般来说真空镀膜加工不能镀的材料是那些表面柔软易变形的材料,pvd真空镀膜价格,还有就是不易干燥的材料。电镀一般是abs塑料才可以处理成导电体再电镀。
真空镀膜加工使用过程中需要使用水吗?会产生什么废气
真空镀膜加工腔体里面是不允许有水的,否则就抽不了真空,不过镀膜机是需要有冷却水循环冷却,至于废气还是要分抽真空镀膜腔体内的空气,还是指抽高真空后真空腔体内溢出的水蒸气和油气分子。
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