pvd真空镀膜公司-泰坦金属-pvd真空镀膜

相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，pvd真空镀膜，它的主要方法包括以下几种：

真空蒸镀

其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

溅射镀膜

溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000v高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，pvd真空镀膜厂，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、---的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。