pvd真空镀膜价格-pvd真空镀膜-东莞泰坦金属制品

众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、---的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，pvd真空镀膜加工，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，pvd真空镀膜，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法，pvd真空镀膜价格，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成---的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的---。

厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4、真空度

5、镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度

2、基片温度

3、蒸发速率

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。